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400-635-0567Surface chemical analysis—X-ray photoelectron spectroscopy—Reporting of results of thin-film analysis
標準 推薦性 現(xiàn)行標準《表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告》由TC38(微束分析標準化技術委員會)歸口上報,TC38SC2(微束分析標準化技術委員會表面化學分析分會)執(zhí)行,主管部門為標準化管理委員會。
廈門荷清教育咨詢有限公司 、清華大學化學系 。
湯丁亮 、李展平 、岑丹霞 、姚文清 、劉芬 、王水菊 。
本標準等同采用ISO標準:ISO 13424:2013。
采標中文名稱:表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告。
20151802-T-469 表面化學分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結果的報告
GB/T 30704-2014 表面化學分析 X射線光電子能譜 分析指南
20121403-T-469 表面化學分析 X射線光電子能譜 分析指南
GB/Z 32490-2016 表面化學分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
20110878-T-469 表面化學分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序
GB/T 28632-2012 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率測定
20078461-T-491 表面化學分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率測定
GB/T 33502-2017 表面化學分析 X射線光電子能譜(XPS)數(shù)據(jù)記錄與報告的規(guī)范要求
GB/T 25185-2010 表面化學分析 X射線光電子能譜 - 荷電控制和荷電校正方法的報告